Chiny rozpoczynają produkcję rodzimych narzędzi do litografii zanurzeniowej w ekstremalnym ultrafiolecie

Chiny rozpoczęły masową produkcję krajowych maszyn do litografii zanurzeniowej w głębokim ultrafiolecie (DUV), technologii kluczowej dla zaawansowanego wytwarzania układów scalonych, poinformowała osoba zaznajomiona ze sprawą. Stanowi to kluczowy krok w dążeniu Pekinu do zmniejszenia zależności od technologii zagranicznych.

Shanghai Aishengna Electronic Technology Group, mało znana chińska firma państwowa, przewodzi pracom produkcyjnym po włączeniu zespołów z czołowych chińskich startupów litograficznych, poinformowało źródło, prosząc o zachowanie anonimowości ze względu na drażliwość tematu.

Rozwój ten stanowi sukces dla ogólnokrajowej inicjatywy Pekinu na rzecz samowystarczalności w zakresie półprzewodników, jednego z najwyższych priorytetów prezydenta Xi Jinpinga, ale nie będzie stanowił bezpośredniego zagrożenia handlowego dla holenderskiego dostawcy ASML.

DUV to kluczowe narzędzie do produkcji układów scalonych, od dawna zdominowane przez ASML.

Portal informacyjny branży technologicznej The Information jako pierwszy poinformował w poniedziałek o opracowaniu tego narzędzia w Chinach, zauważając, że niezidentyfikowana, wspierana przez państwo firma z Szanghaju rozpoczęła produkcję maszyn i planuje wyprodukować około pięciu egzemplarzy w tym roku i około 20 w 2027 roku. ⁠Reuters jako pierwszy podał tożsamość firmy.

Maszyna DUV firmy Aishengna prawdopodobnie będzie wymagała dalszych testów i nadal nie dorównuje bezkonkurencyjnym modelom holenderskiej firmy, poinformowało źródło.

Udane wdrożenie dałoby jednak chińskim producentom chipów alternatywne źródło sprzętu, gdyby rządy zachodnie nadal ograniczały eksport lub serwisowanie zagranicznych narzędzi litograficznych.

Oczekuje się, że chińskie maszyny DUV zostaną dostarczone w tym roku czołowym chińskim producentom chipów, w tym Semiconductor Manufacturing International Corp (SMIC), Hua Hong Semiconductor i producentowi układów pamięci ChangXin Memory Technologies (CXMT), poinformował The Information, powołując się na dwie osoby zaznajomione ze sprawą.

Maszyny immersyjne DUV wykorzystują warstwę wody pomiędzy soczewką projekcyjną a płytką krzemową do drukowania mniejszych wzorów obwodów niż konwencjonalne systemy suche.

Służą one do produkcji szerokiej gamy układów scalonych i mogą być również wykorzystywane do produkcji bardziej zaawansowanych półprzewodników poprzez wielokrotne wzorowanie, które wymaga wielokrotnych ekspozycji tej samej warstwy.

ASML nie odpowiedziało natychmiast na prośbę o komentarz. SMIC, Hua Hong i CXMT również nie odpowiedziały na prośbę o komentarz.

Po spadku o 8% po raporcie The Information w poniedziałek, akcje ASML we wtorek spadały o kolejne 1,6%, podobnie jak akcje innych europejskich spółek z sektora chipów, ale osiągając gorsze wyniki niż szerszy, paneuropejski indeks STOXX 600.

Firma Aishengna została założona w sierpniu 2023 roku z kapitałem zakładowym w wysokości 7 miliardów juanów (1,0 miliarda dolarów), wspieranym przez zaledwie dwóch państwowych akcjonariuszy – Shanghai Electric Holding i spółkę zależną Shanghai International Trust, jak wynika z dokumentów korporacyjnych.

Niewiele wiadomo o firmie, która nie posiada strony internetowej i nie ujawniła publicznie żadnych informacji na temat swojej działalności. Źródło podało, że w skład firmy weszły zespoły ze startupu litograficznego Yuliangsheng, który w zeszłym roku rozpoczął testy prototypu DUV, oraz Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE). SMEE i Yuliangsheng, spółka zależna wspieranego przez Huawei producenta sprzętu SiCarrier, są głęboko zaangażowane w działania Pekinu na rzecz samowystarczalności w zakresie półprzewodników.

Z danych korporacyjnych i rekrutacyjnych wynika, że Aishengna i Yuliangsheng mają ten sam adres w Szanghaju.

Aishengna, jej udziałowcy, SMEE i Yuliangsheng nie odpowiedzieli na prośby o komentarz.

Stany Zjednoczone zabroniły Chinom zakupu najnowocześniejszych systemów litografii w ekstremalnym ultrafiolecie (EUV) firmy ASML, a holenderskie kontrole eksportu ograniczyły również dostęp do niektórych zaawansowanych maszyn DUV.

Chociaż Pekin dąży do samowystarczalności, Chiny pozostają kluczowym filarem przychodów dla ASML, odpowiadając za około 16% sprzedaży netto holenderskiego giganta w pierwszej połowie roku. Choć chińscy producenci chipów nie mają dostępu do zaawansowanych systemów EUV, nadal masowo kupują mniej zaawansowane narzędzia DUV.

Agencja Reuters poinformowała w grudniu, powołując się na źródła, że Chinom udało się zbudować prototyp systemu EUV, narzędzia kluczowego dla budowy najnowocześniejszych chipów na świecie, choć do jego produkcji pozostały jeszcze lata.

Pomimo reakcji rynku, analitycy twierdzą, że informacja ta prawdopodobnie nie wpłynie na trajektorię zysków ASML w perspektywie średnioterminowej.

„Produkcja kilku narzędzi do litografii zanurzeniowej DUV to nie to samo, co produkcja narzędzi, które mogą być wykorzystywane do produkcji wielkoseryjnej, gdzie liczy się wydajność, nakładanie warstw, przerób i niezawodność w przypadku tysięcy serii płytek” – napisali analitycy JP Morgan Chase we wtorkowej notatce.